Bán buôn Mục tiêu phún xạ hợp kim CrAl Lớp phủ PVD màng mỏng có độ tinh khiết cao Nhà sản xuất và nhà cung cấp tùy chỉnh |Giàu có

Nhôm crom

Mục tiêu phún xạ hợp kim CrAl Màng mỏng có độ tinh khiết cao Lớp phủ PVD được thực hiện tùy chỉnh Hình ảnh nổi bật

Mô tả ngắn:

Loại	Mục tiêu phún xạ hợp kim
Công thức hóa học	CrAl
Thành phần	Nhôm crom
độ tinh khiết	99,7%,99,9%,99,95%,99,99%
Hình dạng	Tấm, Mục tiêu cột, cực âm hồ quang, Tùy chỉnh
Quy trình sản xuất	Nóng chảy chân không, PM
Kích thước sẵn có	L<2000mm,W<200mm

Gửi email cho chúng tôi

Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Việc chế tạo Mục tiêu phún xạ nhôm crom bao gồm các bước sau:

1. Nghiền và trộn bột.

2. Xử lý ép đẳng nhiệt nóng để thu được bán thành phẩm.

3. Gia công vật liệu mục tiêu phún xạ hợp kim nhôm crom thô để thu được vật liệu mục tiêu phún xạ hợp kim nhôm crom.

Trong quá trình lắng đọng mục tiêu phún xạ CrAl sẽ hình thành lớp phủ Nhôm-Chrom-Nitrid (AlCrN) cứng.Lớp phủ này cho thấy độ cứng cao và đặc tính chống oxy hóa ngay cả ở nhiệt độ cao.Máy cắt có thể chạy ở bước tiến cao để tăng năng suất và nâng cao chất lượng khi sử dụng máy CNC.

Các mục tiêu AlCr điển hình của chúng tôi và đặc tính của chúng

	Cr-70AlTại%	Cr-60AlTại%	Cr-50AlTại%
Độ tinh khiết (%)	99,8/99,9/99,95	99,8/99,9/99,95	99,8/99,9/99,95
Tỉ trọng（g/cm³)	3,7	4.35	4,55
Gcơn mưa Kích cỡ(µm)	100/50	100/50	100/50
Quá trình	HÔNG	HÔNG	HÔNG

Vật liệu đặc biệt phong phú chuyên sản xuất mục tiêu phún xạ và có thể sản xuất Vật liệu phún xạ nhôm crom theo thông số kỹ thuật của Khách hàng.Sản phẩm của chúng tôi có tính chất cơ học tuyệt vời, cấu trúc đồng nhất, bề mặt được đánh bóng không có sự phân tách, lỗ rỗng hoặc vết nứt.Để biết thêm thông tin, xin vui lòng liên hệ với chúng tôi.

Trước: Mục tiêu phún xạ hợp kim CoFe Độ tinh khiết cao Lớp phủ Pvd màng mỏng được thực hiện tùy chỉnh

Kế tiếp: Mục tiêu phún xạ hợp kim AlSi Độ tinh khiết cao Lớp phủ PVD màng mỏng được thực hiện tùy chỉnh