Chào mừng đến với trang web của chúng tôi!

Mục tiêu phún xạ FeSi Lớp phủ Pvd màng mỏng có độ tinh khiết cao được thực hiện tùy chỉnh

sắt silic

Mô tả ngắn:

Loại

Mục tiêu phún xạ hợp kim

Công thức hóa học

FeSi

Thành phần

sắt silic

độ tinh khiết

99,9%,99,95%,99,99%

Hình dạng

Tấm, Mục tiêu cột, cực âm hồ quang, Tùy chỉnh

Quy trình sản xuất

nóng chảy chân không

Kích thước sẵn có

L<200mm,W<200mm


Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Hợp kim sắt Silicon thường có hàm lượng Silicon khoảng 0,5-4%.Nó có độ trễ thấp hơn sắt nguyên chất và điện trở suất cao, có thể ứng dụng trong từ trường.Để giảm tổn thất dòng điện xoáy, hợp kim Sắt Silicon thường được cán nóng thành tấm 0,35-0,5mm (cán silicon).Cán silicon được sử dụng rộng rãi trong ngành điện lực nên còn được gọi là thép điện.

Hợp kim Ferrosilicon có đặc tính từ tính tuyệt vời và độ từ hóa bão hòa thấp.Nó có kích thước hạt thô, độ thấm từ và điện trở suất cao, lực cưỡng bức thấp và mất lõi.Silicon có thể thúc đẩy quá trình than chì hóa Carbon trong thép và ngăn chặn hiệu quả hiện tượng lão hóa từ tính.Hợp kim Ferrosilicon có độ ổn định cao và có thể ứng dụng trong môi trường khắc nghiệt.

Vật liệu đặc biệt phong phú chuyên sản xuất mục tiêu phún xạ và có thể sản xuất Vật liệu phún xạ sắt silic theo thông số kỹ thuật của Khách hàng.Để biết thêm thông tin, xin vui lòng liên hệ với chúng tôi.


  • Trước:
  • Kế tiếp: