TiTa phún xạ mục tiêu Lớp phủ Pvd màng mỏng có độ tinh khiết cao được thực hiện tùy chỉnh

Mục tiêu phún xạ titan Tantalum được chế tạo bằng phương pháp nấu chảy và đúc.Hợp kim Ti-Ta là vật liệu quan trọng cho thành phần thiết bị xử lý chất thải hạt nhân.Nó cũng có đặc tính cơ học vượt trội, đây là điều cần cân nhắc đầu tiên khi sử dụng nó làm vật liệu cấy ghép chỉnh hình.Ngoài ra, lớp phủ TiTaN được sử dụng rộng rãi trong ngành công cụ cắt khuôn vì khả năng chống mài mòn và ăn mòn tuyệt vời.

Rich Special Materials là Nhà sản xuất Mục tiêu phún xạ và có thể sản xuất Vật liệu phún xạ Titan Tantalum theo thông số kỹ thuật của Khách hàng.Để biết thêm thông tin, xin vui lòng liên hệ với chúng tôi.