Mục tiêu phún xạ hợp kim AlSiCu Độ tinh khiết cao Lớp phủ Pvd màng mỏng được thực hiện tùy chỉnh

Hợp kim nhôm Silicon Đồng được chế tạo bằng kỹ thuật nóng chảy và biến dạng chân không.Nó có độ tinh khiết cao, cấu trúc vi mô đồng nhất và kích thước hạt tinh chế và được sử dụng trong một số ứng dụng và ngành công nghiệp, bao gồm lớp phủ PVD, thành phần lò chân không, mục tiêu phún xạ tia X.Nó cũng là vật liệu phủ cho Mạch tích hợp quy mô lớn nhờ sự kết hợp độc đáo của các đặc tính mong muốn, bao gồm trọng lượng nhẹ, tính dẫn nhiệt tốt, độ cứng, độ bền và khả năng chống ăn mòn.

Vật liệu đặc biệt phong phú chuyên sản xuất mục tiêu phún xạ và có thể sản xuất Vật liệu phún xạ đồng nhôm silicon theo thông số kỹ thuật của Khách hàng.Sản phẩm của chúng tôi có tính chất cơ học tuyệt vời, cấu trúc đồng nhất, bề mặt được đánh bóng không có sự phân tách, lỗ rỗng hoặc vết nứt.Để biết thêm thông tin, xin vui lòng liên hệ với chúng tôi.