Cr phún xạ mục tiêu Độ tinh khiết cao Lớp phủ PVD màng mỏng được thực hiện tùy chỉnh
crom
Băng hình
Mô tả mục tiêu phún xạ Vanadi
Crom là một kim loại cứng, màu bạc có tông màu xanh lam.Crom nguyên chất có độ dẻo và độ cứng tuyệt vời.Nó có mật độ 7,20g/cm3, nhiệt độ nóng chảy 1907oC và nhiệt độ sôi 2671oC.Crom có khả năng chống ăn mòn cực cao và tốc độ oxy hóa thấp ngay cả ở nhiệt độ cao.Kim loại Crom được tạo ra thông qua quá trình nhiệt nhôm từ crom oxit hoặc quá trình điện phân sử dụng ferrocrom hoặc axit cromic.
Các mục tiêu phún xạ Crom có độ tinh khiết cao có thể được sử dụng cho các ứng dụng chung.Lớp phủ do các mục tiêu Crom tạo ra thể hiện độ bền và khả năng chống mài mòn tuyệt vời.
Chúng tôi có thể cung cấp Crom ở các độ tinh khiết khác nhau
| Pnước tiểu | Iđộ tinh khiết (ppm) ≤ | ||||||
| Fe | Si | Al | C | N | O | S | |
| 99,2 | 3000 | 2500 | 2000 | 200 | 500 | 2000 | 100 |
| 99,5 | 2000 | 2000 | 1200 | 200 | 500 | 1500 | 100 |
| 99,7 | 1200 | 1000 | 1000 | 200 | 300 | 1200 | 100 |
| 99,8 | 1000 | 800 | 600 | 200 | 200 | 1000 | 100 |
| 99,9 | 500 | 200 | 300 | 150 | 100 | 500 | 50 |
| 99,95 | 200 | 100 | 100 | 100 | 100 | 300 | 50 |
Ứng dụng mục tiêu phún xạ crom
Mục tiêu phún xạ crom được sử dụng trong nhiều ứng dụng chân không như lớp phủ kính ô tô, chế tạo tế bào quang điện, chế tạo pin, pin nhiên liệu và lớp phủ trang trí và chống ăn mòn.Mục tiêu phún xạ crom được sử dụng cho CD-ROM, trang trí lắng đọng màng mỏng, màn hình phẳng, lớp phủ chức năng cũng như các ngành công nghiệp không gian lưu trữ thông tin quang học khác, v.v.
Bao bì mục tiêu phún xạ crom
Mục tiêu phún xạ crom của chúng tôi được gắn thẻ và dán nhãn rõ ràng bên ngoài để đảm bảo nhận dạng và kiểm soát chất lượng hiệu quả.Cần phải hết sức cẩn thận để tránh mọi hư hỏng có thể xảy ra trong quá trình bảo quản hoặc vận chuyển.
Nhận liên hệ
Mục tiêu phún xạ Crom của RSM có độ tinh khiết và đồng đều cực cao.Chúng có sẵn ở nhiều dạng, độ tinh khiết, kích cỡ và giá cả khác nhau.Chúng tôi chuyên sản xuất vật liệu phủ màng mỏng có độ tinh khiết cao với hiệu suất tuyệt vời cũng như mật độ cao nhất có thể và kích thước hạt trung bình nhỏ nhất có thể để sử dụng trong lớp phủ khuôn, trang trí, phụ tùng ô tô, kính Low-E, mạch tích hợp bán dẫn, màng mỏng điện trở, hiển thị đồ họa, hàng không vũ trụ, ghi từ tính, màn hình cảm ứng, pin mặt trời màng mỏng và các ứng dụng lắng đọng hơi vật lý (PVD) khác.Vui lòng gửi cho chúng tôi yêu cầu về giá hiện tại của mục tiêu phún xạ và các vật liệu lắng đọng khác chưa được liệt kê.
