Sự khác biệt giữa mục tiêu mạ điện và mục tiêu phún xạ

Với sự cải thiện mức sống của người dân và sự phát triển không ngừng của khoa học và công nghệ, con người ngày càng có yêu cầu cao hơn về hiệu suất của các sản phẩm sơn trang trí chịu mài mòn, chống ăn mòn và chịu nhiệt độ cao.Tất nhiên, lớp phủ cũng có thể làm đẹp màu sắc của những đồ vật này.Vậy thì, sự khác biệt giữa việc xử lý mục tiêu mạ điện và mục tiêu phún xạ là gì?Hãy để chuyên gia Phòng Công nghệ RSM giải thích cho bạn.

　　Mục tiêu mạ điện

Nguyên lý mạ điện phù hợp với nguyên lý luyện đồng điện phân.Khi mạ điện, chất điện phân chứa các ion kim loại của lớp mạ thường được sử dụng để chuẩn bị dung dịch mạ;Nhúng sản phẩm kim loại cần mạ vào dung dịch mạ rồi nối với cực âm của nguồn điện một chiều làm cực âm;Kim loại phủ được sử dụng làm cực dương và kết nối với điện cực dương của nguồn điện DC.Khi cho dòng điện một chiều điện áp thấp vào, kim loại cực dương hòa tan trong dung dịch và trở thành cation và di chuyển về cực âm.Các ion này thu được các electron ở cực âm và bị khử thành kim loại, được phủ lên các sản phẩm kim loại được mạ.

　　mục tiêu phún xạ

Nguyên tắc chủ yếu là sử dụng sự phóng điện phát sáng để bắn phá các ion argon trên bề mặt mục tiêu, và các nguyên tử của mục tiêu được đẩy ra và lắng đọng trên bề mặt đế để tạo thành một màng mỏng.Tính chất và tính đồng nhất của màng phún xạ tốt hơn màng lắng đọng hơi, nhưng tốc độ lắng đọng chậm hơn nhiều so với màng lắng đọng hơi.Thiết bị phún xạ mới hầu như sử dụng nam châm mạnh để các electron xoắn ốc để tăng tốc độ ion hóa argon xung quanh mục tiêu, làm tăng khả năng va chạm giữa mục tiêu và các ion argon và cải thiện tốc độ phún xạ.Hầu hết các màng mạ kim loại đều là phún xạ DC, trong khi vật liệu từ tính gốm không dẫn điện là phún xạ RF AC.Nguyên tắc cơ bản là sử dụng sự phóng điện phát sáng trong chân không để bắn phá bề mặt mục tiêu bằng các ion argon.Các cation trong plasma sẽ tăng tốc lao tới bề mặt điện cực âm làm vật liệu phún xạ.Sự bắn phá này sẽ làm cho vật liệu mục tiêu bay ra ngoài và đọng lại trên bề mặt tạo thành một màng mỏng.

　　Tiêu chí lựa chọn vật liệu mục tiêu

(1) Mục tiêu phải có độ bền cơ học tốt và độ ổn định hóa học sau khi tạo màng;

(2) Vật liệu màng cho màng phún xạ phản ứng phải dễ tạo thành màng hỗn hợp với khí phản ứng;

(3) Mục tiêu và chất nền phải được lắp ráp chắc chắn, nếu không, vật liệu màng có lực liên kết tốt với chất nền sẽ được sử dụng, và màng đáy phải được phun trước, sau đó phải chuẩn bị lớp màng cần thiết;

(4) Trên cơ sở đáp ứng các yêu cầu về hiệu suất của màng, chênh lệch giữa hệ số giãn nở nhiệt của mục tiêu và chất nền càng nhỏ thì càng tốt, để giảm ảnh hưởng của ứng suất nhiệt của màng phún xạ;

(5) Theo yêu cầu về ứng dụng và hiệu suất của màng, mục tiêu được sử dụng phải đáp ứng các yêu cầu kỹ thuật về độ tinh khiết, hàm lượng tạp chất, độ đồng đều của thành phần, độ chính xác gia công, v.v.