Công nghệ điều chế và ứng dụng mục tiêu vonfram có độ tinh khiết cao

Do độ ổn định nhiệt độ cao, khả năng chống di chuyển điện tử cao và hệ số phát xạ điện tử cao của hợp kim vonfram và vonfram chịu lửa, các mục tiêu hợp kim vonfram và vonfram có độ tinh khiết cao chủ yếu được sử dụng để sản xuất điện cực cổng, dây kết nối, lớp rào cản khuếch tán, v.v. của chất bán dẫn mạch tích hợp và có yêu cầu cao về độ tinh khiết, hàm lượng nguyên tố tạp chất, mật độ, kích thước hạt và tính đồng nhất về cấu trúc hạt của vật liệu.Bây giờ chúng ta hãy xem các yếu tố ảnh hưởng đến việc chuẩn bị mục tiêu vonfram có độ tinh khiết cao.

　　1, Ảnh hưởng của nhiệt độ thiêu kết

Quá trình hình thành phôi mục tiêu vonfram thường được thực hiện bằng cách ép đẳng tĩnh lạnh.Hạt vonfram sẽ phát triển trong quá trình thiêu kết.Sự phát triển của hạt vonfram sẽ lấp đầy khoảng trống giữa các ranh giới hạt, do đó cải thiện mật độ của mục tiêu vonfram.Với sự gia tăng thời gian thiêu kết, sự gia tăng mật độ mục tiêu vonfram dần dần chậm lại.Nguyên nhân chính là sau nhiều lần thiêu kết, chất lượng của mục tiêu vonfram không thay đổi nhiều.Bởi vì hầu hết các khoảng trống trong ranh giới hạt được lấp đầy bằng tinh thể vonfram, nên sau mỗi lần thiêu kết, tốc độ thay đổi kích thước tổng thể của mục tiêu vonfram là rất nhỏ, dẫn đến không gian hạn chế cho mật độ của mục tiêu vonfram tăng lên.Với quá trình thiêu kết, các hạt vonfram phát triển sẽ được lấp đầy vào các khoảng trống, dẫn đến mật độ mục tiêu cao hơn với kích thước hạt nhỏ hơn.

　　2, Ảnh hưởng của thời gian giữ

Ở cùng nhiệt độ thiêu kết, độ nén của mục tiêu vonfram sẽ được cải thiện khi kéo dài thời gian giữ thiêu kết.Với việc kéo dài thời gian giữ, kích thước hạt vonfram sẽ tăng lên và khi thời gian giữ kéo dài, thời gian tăng trưởng của kích thước hạt sẽ dần chậm lại, điều đó có nghĩa là việc tăng thời gian giữ cũng có thể cải thiện hiệu suất của mục tiêu vonfram.

　　3、 Hiệu ứng lăn trên thuộc tính mục tiêu

Để cải thiện mật độ của vật liệu mục tiêu vonfram và đạt được cấu trúc xử lý của vật liệu mục tiêu vonfram, việc cán vật liệu mục tiêu vonfram ở nhiệt độ trung bình phải được thực hiện dưới nhiệt độ kết tinh lại.Nếu nhiệt độ cán của phôi mục tiêu cao thì cấu trúc sợi của phôi mục tiêu sẽ thô và ngược lại.Khi tốc độ lăn ấm đạt trên 95%.Mặc dù sự khác biệt về cấu trúc sợi do các hạt ban đầu khác nhau hoặc nhiệt độ cán khác nhau gây ra sẽ bị loại bỏ, nhưng cấu trúc bên trong của mục tiêu sẽ hình thành cấu trúc sợi tương đối đồng nhất, do đó tốc độ xử lý cán ấm càng cao thì hiệu suất của mục tiêu càng tốt