Vật liệu mục tiêu Niobi chủ yếu được sử dụng trong lớp phủ quang học, lớp phủ vật liệu kỹ thuật bề mặt và các ngành công nghiệp sơn như khả năng chịu nhiệt, chống ăn mòn và độ dẫn điện cao.Trong lĩnh vực phủ quang học, nó chủ yếu được ứng dụng trong các sản phẩm quang học nhãn khoa, thấu kính, quang học chính xác, lớp phủ diện rộng, lớp phủ 3D và các khía cạnh khác.
Vật liệu làm bia niobi thường được gọi là bia trần.Đầu tiên, nó được hàn vào mục tiêu bằng đồng, sau đó được phun để lắng đọng các nguyên tử niobi dưới dạng oxit trên vật liệu nền, đạt được lớp phủ phún xạ.Với sự phát triển và mở rộng liên tục của công nghệ và ứng dụng mục tiêu niobi, các yêu cầu về tính đồng nhất của cấu trúc vi mô mục tiêu niobi đã tăng lên, chủ yếu biểu hiện ở ba khía cạnh: sàng lọc kích thước hạt, không định hướng kết cấu rõ ràng và cải thiện độ tinh khiết hóa học.
Sự phân bố đồng đều các cấu trúc và đặc tính vi mô trên toàn bộ mục tiêu là rất quan trọng để đảm bảo hiệu suất phún xạ của vật liệu mục tiêu niobi.Bề mặt của các mục tiêu niobi gặp phải trong sản xuất công nghiệp thường có các mẫu đều đặn, điều này ảnh hưởng lớn đến hiệu suất phún xạ của các mục tiêu.Làm thế nào chúng ta có thể cải thiện tỷ lệ sử dụng của các mục tiêu?
Qua nghiên cứu cho thấy hàm lượng tạp chất (độ tinh khiết mục tiêu) là yếu tố quan trọng ảnh hưởng đến độ tinh khiết.Thành phần hóa học của nguyên liệu thô không đồng đều và tạp chất được làm giàu.Sau quá trình cán sau này, các mẫu đều đặn được hình thành trên bề mặt vật liệu mục tiêu niobi;Loại bỏ sự phân bố không đồng đều của các thành phần nguyên liệu thô và làm giàu tạp chất có thể tránh được sự hình thành các mẫu đều đặn trên bề mặt của mục tiêu niobi.Ảnh hưởng của kích thước hạt và thành phần cấu trúc lên vật liệu mục tiêu có thể gần như không đáng kể.
Thời gian đăng: 19/06/2023