Mục tiêu phún xạ silicon

Một số khách hàng hỏi về mục tiêu phún xạ silicon.Bây giờ, các đồng nghiệp từ Phòng Công nghệ RSM sẽ phân tích mục tiêu phún xạ silicon cho bạn.

Mục tiêu phún xạ silicon được chế tạo bằng cách phún xạ kim loại từ phôi silicon.Mục tiêu có thể được chế tạo bằng nhiều quy trình và phương pháp khác nhau, bao gồm mạ điện, phún xạ và lắng đọng hơi.Các phương án được ưu tiên còn cung cấp thêm các quy trình làm sạch và ăn mòn để đạt được điều kiện bề mặt mong muốn.Mục tiêu được tạo ra có độ phản chiếu cao, độ nhám dưới 500 angstrom và tốc độ ghi tương đối nhanh.Màng được chuẩn bị bởi mục tiêu silicon có số lượng hạt thấp.

Mục tiêu phún xạ silicon được sử dụng để lắng đọng màng mỏng trên vật liệu gốc silicon.Chúng thường được sử dụng trong các ứng dụng hiển thị, bán dẫn, quang học, truyền thông quang học và phủ kính.Chúng cũng thích hợp để khắc các linh kiện công nghệ cao.Mục tiêu phún xạ silicon loại N có thể được sử dụng cho các mục đích khác nhau.Nó có thể áp dụng cho nhiều lĩnh vực, bao gồm điện tử, pin mặt trời, chất bán dẫn và màn hình.

Mục tiêu phún xạ silicon là một phụ kiện phún xạ được sử dụng để lắng đọng vật liệu trên bề mặt.Thông thường, nó bao gồm các nguyên tử silicon.Quá trình phún xạ đòi hỏi lượng vật liệu chính xác, đây có thể là một thách thức lớn.Sử dụng thiết bị phún xạ lý tưởng là cách duy nhất để chế tạo các linh kiện dựa trên silicon.Điều đáng chú ý là mục tiêu phún xạ silicon không được sử dụng trong quá trình phún xạ.