Mục tiêu phún xạ TaNb Lớp phủ Pvd màng mỏng có độ tinh khiết cao được thực hiện tùy chỉnh

Mục tiêu phún xạ Tantalum Niobium được chế tạo bằng phương pháp nấu chảy Tantalum và Niobium trong chân không.Hai loại này là kim loại hiếm có điểm nóng chảy cao (Tantalum 2996oC, Niobium 2468oC), điểm sôi cao (Tantalum 5427oC, Niobium 5127oC).Hợp kim Tantalum Niobium có bề ngoài tương tự như thép, nó có ánh xám bạc (trong khi bột có màu xám đen).Nó có nhiều đặc tính thuận lợi: chống ăn mòn, siêu dẫn và độ bền nhiệt độ cao.Vì vậy, bất kỳ ứng dụng hoặc ngành công nghiệp nào cũng có thể hưởng lợi từ việc sử dụng hợp kim Tantalum Niobium, chẳng hạn như điện tử, thủy tinh & quang học, hàng không vũ trụ, thiết bị y tế, chất siêu dẫn và thép.

Tantalum và Niobium đã đóng vai trò quan trọng trong ngành vũ trụ trong nhiều năm nhờ độ bền ấn tượng, khả năng chống ăn mòn và các tính năng hấp dẫn khác, đồng thời đã được sử dụng trong nhiều bộ phận quan trọng như động cơ tên lửa và vòi phun.